化学高纯样品

化学高纯样品 超纯水 半导体高纯液体化学品 有机化学品纳米颗粒物 半导体零部件洁净度 光刻胶 晶圆表面金属 晶圆表面有机污染 晶圆盒污染评估 超净高纯特气 空气分子污染物

化学高纯检测细分样品

产品介绍

◆ G4/G5超高纯无机酸:HNO3, HCl, HF, H2SO4, SC-1, SC-2, SPM, LHF, DHF, BOE等
◆ G4/G5超高纯双氧水: H2O2
◆ G4/G5超高纯碱: TMAH, NH3·H2O等
◆ G4/G5超高纯有机化学品: IPA, PGME, PGMEA, OK-73, EKC, ST-44等
◆ 光刻胶
◆ 超高纯介电前驱体和金属前驱体: TEOS, TEB, TEPO, TDMAT等
◆ KOH, NaOH, Slurry等
◆ 超纯水(专业人员去客户现场,专业手法取样)
◆ 12寸, 8寸, 6寸硅片和芯片
◆ 硅材料体金属
◆ 化合物半导体芯片(第三代半导体芯片)
◆ 高纯气体: Cl2, HCl, SiH4, NH3, O2, N2, H2
◆ Fab厂洁净空气污染(AMC)
◆ Parts Clean
◆ 过滤器材
◆ 密封圈等半导体生产耗材
◆ 液晶和OLED材料


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